出版商:Elsevier Ltd
出版語言:English
出版地區(qū):ENGLAND
出版周期:Bimonthly
ISSN:0030-3992
E-ISSN:1879-2545
創(chuàng)刊時間:1968
是否OA:未開放
是否預(yù)警:否
中科院 2023年12月升級版:中科院分區(qū)2區(qū) 大類學(xué)科:物理與天體物理
收稿方向:物理-光學(xué)
學(xué)術(shù)咨詢:預(yù)計審稿周期: 約2.1個月 約9周 影響因子:4.6 CiteScore:8.3
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《光學(xué)與激光技術(shù)》旨在為光學(xué)和激光技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用相關(guān)的科學(xué)和工程研究領(lǐng)域提供廣泛的高質(zhì)量研究和評論論文的出版載體。描述這些領(lǐng)域原創(chuàng)工作的論文在接受出版之前要經(jīng)過嚴(yán)格的評審。
光學(xué)與激光技術(shù)的范圍包括但不限于以下領(lǐng)域:
?所有類型激光器的開發(fā)
?光電器件和光子學(xué)的開發(fā)
?新光子學(xué)和光學(xué)概念的開發(fā)
?傳統(tǒng)光學(xué)、光學(xué)儀器和組件的開發(fā)
?光學(xué)計量技術(shù),包括干涉測量和光纖傳感器
?激光雷達和其他非接觸式光學(xué)測量技術(shù),包括熱和流體流動中的光學(xué)方法
?激光在材料加工、光學(xué)無損檢測顯示(包括全息術(shù))和光通信中的應(yīng)用
?激光安全領(lǐng)域的研究和開發(fā),包括對激光應(yīng)用造成的危害的研究(激光安全、危害激光煙霧)
?光學(xué)計算和光學(xué)信息處理的發(fā)展
?新光學(xué)材料的發(fā)展
?新光學(xué)表征方法和技術(shù)的發(fā)展
?量子光學(xué)的發(fā)展
?光輔助微納米制造方法和技術(shù)的發(fā)展
?納米光子學(xué)和生物光子學(xué)的發(fā)展
?成像處理和系統(tǒng)的發(fā)展
光學(xué)和激光技術(shù)創(chuàng)刊于1968年,由Elsevier Ltd出版社出版。其研究的主題領(lǐng)域包括但不限于物理-光學(xué),是一本在物理與天體物理領(lǐng)域具有重要影響力的國際期刊。該期刊涵蓋了物理與天體物理的多個子領(lǐng)域,旨在全面理解和解決物理與天體物理問題。
根據(jù)最新的數(shù)據(jù),光學(xué)和激光技術(shù)的影響因子為4.6,CiteScore為8.3,h-index為63,SJR為0.874,SNIP為1.577,中科院分區(qū)為2區(qū),這些指標(biāo)均顯示了該期刊在物理與天體物理領(lǐng)域的優(yōu)秀地位。
該刊以English作為出版語言。對于English非母語的作者,期刊建議使用語言編輯服務(wù),以確保文稿的語法和拼寫錯誤得到糾正,并符合科學(xué)English的標(biāo)準(zhǔn)。如果想實現(xiàn)快速順利的投稿發(fā)表,建議您聯(lián)系本站的客服團隊,將為您提供專業(yè)的選刊建議,并在整個投稿過程中提供細致的指導(dǎo)。
*期刊發(fā)文量是一個量化的指標(biāo),用于衡量期刊的出版活動和學(xué)術(shù)影響力。
*綜述文章是一種特定的學(xué)術(shù)文體,專門用來回顧和總結(jié)某一領(lǐng)域或主題的現(xiàn)有研究成果和理論進展。
*發(fā)文量和綜述量都在學(xué)術(shù)出版中都扮演著重要的角色,但關(guān)注的焦點和目的不同。
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering | Q1 | 102 / 738 |
86% |
| 大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q1 | 45 / 271 |
83% |
| 大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q1 | 36 / 211 |
83% |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
*中科院期刊分區(qū)表是中國科研界廣泛認可的期刊評價體系,是由中國科學(xué)院文獻情報中心科學(xué)計量中心編制的一套期刊評價體系,在中國的科研界具有較高的認可度和影響力,常被用作科研項目評審、職稱評定、學(xué)術(shù)評價等方面的參考依據(jù)。
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q1 | 21 / 119 |
82.8% |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 45 / 179 |
75.1% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q1 | 20 / 120 |
83.75% |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q1 | 29 / 179 |
84.08% |
該期刊是一本由Elsevier Ltd出版社出版的學(xué)術(shù)期刊,屬于JCR分區(qū)中學(xué)科領(lǐng)域的區(qū),學(xué)科領(lǐng)域的區(qū),學(xué)科領(lǐng)域的區(qū)期刊,中科院分區(qū)為物理與天體物理學(xué)科領(lǐng)域2區(qū)。該期刊的ISSN為0030-3992,近一年未被列入預(yù)警期刊名單,是一本國際優(yōu)秀期刊。
該期刊涉及的研究領(lǐng)域是物理-光學(xué),在中科院分區(qū)表中大類學(xué)科為Elsevier Ltd,小類學(xué)科為Elsevier Ltd,在準(zhǔn)備向該期刊投稿時,請確保您的研究內(nèi)容與期刊的研究領(lǐng)域緊密相關(guān)至關(guān)重要。
Optics And Laser Technology期刊2023年的影響因子是4.6,2022年的影響因子是5,該期刊審稿周期預(yù)計需要約 約2.1個月 約9周,為了確保您的投稿過程順利進行,請合理規(guī)劃時間投稿。
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