出版商：IOP Publishing Ltd.
出版語言：English
出版地區(qū)：ENGLAND
出版周期：Bimonthly
ISSN：0963-0252
E-ISSN：1361-6595
創(chuàng)刊時間：1992
是否OA：未開放
是否預警：否
中科院 2023年12月升級版：中科院分區(qū)2區(qū) 大類學科：物理與天體物理
收稿方向：物理-物理：流體與等離子體
學術(shù)咨詢：預計審稿周期： 約6.0個月 影響因子：3.3 CiteScore：7.1
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等離子體源科學與技術(shù) (PSST) 報告了在各種氣壓和等離子體密度范圍內(nèi)運行的低溫等離子體和電離氣體，這些氣體具有不同的電離程度。PSST 的重點是這些等離子體的基礎(chǔ)科學、它們的來源以及由它們引發(fā)或維持的物理和化學過程，這些過程通過理論、計算或?qū)嶒灱夹g(shù)闡明。PSST 還報告了研究低溫等離子體所需的新的實驗或理論得出的基礎(chǔ)數(shù)據(jù)（例如截面、傳輸系數(shù)）。與這些等離子體的技術(shù)和應用相關(guān)的報告應與等離子體狀態(tài)下發(fā)生的科學和基本過程緊密相關(guān)。
等離子源科技創(chuàng)刊于1992年，由IOP Publishing Ltd.出版社出版。其研究的主題領(lǐng)域包括但不限于物理-物理：流體與等離子體，是一本在物理與天體物理領(lǐng)域具有重要影響力的國際期刊。該期刊涵蓋了物理與天體物理的多個子領(lǐng)域，旨在全面理解和解決物理與天體物理問題。
根據(jù)最新的數(shù)據(jù)，等離子源科技的影響因子為3.3，CiteScore為7.1，h-index為94，SJR為0.771，SNIP為1.373，中科院分區(qū)為2區(qū)，這些指標均顯示了該期刊在物理與天體物理領(lǐng)域的優(yōu)秀地位。
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*期刊發(fā)文量是一個量化的指標，用于衡量期刊的出版活動和學術(shù)影響力。
*綜述文章是一種特定的學術(shù)文體，專門用來回顧和總結(jié)某一領(lǐng)域或主題的現(xiàn)有研究成果和理論進展。
*發(fā)文量和綜述量都在學術(shù)出版中都扮演著重要的角色，但關(guān)注的焦點和目的不同。
| 學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics | Q1 | 74 / 434 |
83% |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 1區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 2區(qū) | 否 | 否 |
*中科院期刊分區(qū)表是中國科研界廣泛認可的期刊評價體系，是由中國科學院文獻情報中心科學計量中心編制的一套期刊評價體系,在中國的科研界具有較高的認可度和影響力，常被用作科研項目評審、職稱評定、學術(shù)評價等方面的參考依據(jù)。
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
該期刊是一本由IOP Publishing Ltd.出版社出版的學術(shù)期刊，屬于JCR分區(qū)中學科領(lǐng)域的區(qū),學科領(lǐng)域的區(qū),學科領(lǐng)域的區(qū)期刊，中科院分區(qū)為物理與天體物理學科領(lǐng)域2區(qū)。該期刊的ISSN為0963-0252，近一年未被列入預警期刊名單，是一本國際優(yōu)秀期刊。
該期刊涉及的研究領(lǐng)域是物理-物理：流體與等離子體，在中科院分區(qū)表中大類學科為IOP Publishing Ltd.，小類學科為IOP Publishing Ltd.，在準備向該期刊投稿時，請確保您的研究內(nèi)容與期刊的研究領(lǐng)域緊密相關(guān)至關(guān)重要。
Plasma Sources Science & Technology期刊2023年的影響因子是3.3，2022年的影響因子是3.8，該期刊審稿周期預計需要約 約6.0個月 ，為了確保您的投稿過程順利進行，請合理規(guī)劃時間投稿。
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